安藤みやこさんがThe13th Asian Thermal Spray ConferenceにてBest Poster Presentation Awardを受賞
2026/01/13
- 材料工学専攻
受賞者
安藤 みやこさん（材料工学専攻）
指導教員
湯本 敦史 教授（工学部）
学会・大会名
The13th Asian Thermal Spray Conference
賞名
Best Poster Presentation Award
発表題目
In-situ nitridation synthesis of AlN films via Supersonic Free-Jet PVD
研究内容
本研究は、超音速フリージェットPVD(SFJ-PVD)を用いて、アルミニウムと窒素との反応による膜の形成と窒化アルミニウムターゲットからの膜の形成の2通りを試み、成膜条件がおよぼす膜構成相や膜組織に与える影響を調査・評価した。膜の原料となる粒子を生成する際の圧力が膜の構成相に大きく影響を及ぼしていることが示唆された。
研究目的
本研究は、超音速フリージェットPVD(SFJ-PVD)を用いて、アルミニウムと窒素との反応による膜の形成と窒化アルミニウムターゲットからの膜の形成の2通りを試み、成膜条件がおよぼす膜構成相や膜組織に与える影響を調査・評価した。膜の原料となる粒子を生成する際の圧力が膜の構成相に大きく影響を及ぼしていることが示唆された。
研究目的
開発が進む半導体に適用できる新たな放熱材として窒化アルミニウム(AlN)が注目を浴びている。既存の方法では成膜温度や膜の緻密さなど多く課題が残っているため、新たな成膜方法の開発が求められている。新規成膜方法としてSFJ-PVDを提案するためにAlN膜の形成を試み、各条件が及ぼす影響を評価・調査することを目的とした。
今後の展望
新しい成膜方法を確立させることでさらに高性能な半導体開発に寄与できると考えている。膜形成メカニズムの解明、実用化に向けた成膜条件の確立や物性値の測定が課題である。