植月暁さんが一般社団法人 表面技術協会 第百三十九回講演大会において学術奨励講演賞を受賞

【受賞者】植月 暁 さん(応用化学専攻2年)
【指導教員】大石 知司 教授(応用化学科)
【学会・大会名(正式名称)】一般社団法人 表面技術協会 第百三十九回講演大会
【賞名】学術奨励講演賞
【発表題目】グリオキシル酸銅錯体を出発原料とするレーザ照射を用いた大気中での銅配線技術と密着性向上

近年、電子機器の普及拡大に伴い、配線の効率的な形成方法が求められている。本研究では、安価なガラス基板の表面に密着性,導電性の良好な配線を、大気中で簡便に形成できる技術の開発を目的とした。

ガラス表面に極微小なシリカ粒子の膜を形成し、その上に銅に有機物を配位させた銅錯体の膜を形成した。この膜へレーザを大気中で照射することで、純粋な銅の配線が形成できた。更にこの配線に無電解銅めっき処理を行うことで、密着性,導電性の良好な配線を形成することができた。

本研究で形成できる配線の更なる微細化を実現させることで、小型化,高機能化が求められる電子機器の製造プロセスの簡便化を図り、エレクトロニクス業界の発展に役立てていきたい。

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